- 首页
-
产品
-
- 高纯元素
-
化合物原料
- 氧化物
- 硫化物
- 氟化物
- 氮化物
- 碳化物
-
卤化物
- 氯化镓 GaCl3
- 氯化铟 InCl3
- 氯化铝 AlCl3
- 氯化铋 BiCl3
- 氯化镉 CdCl2
- 氯化铬 CrCl2
- 氯化铬水合物 CrCl2(H2O)n
- 氯化铜(I) CuCl
- 氯化铜(II) CuCl2
- 氯化铯 CsCl
- 氯化铕 EuCl3
- 氯化铕水合物 EuCl3.xH2O
- 氯化镁 MgCl2
- 氯化钠 NaCl
- 氯化镍 NiCl2
- 氯化铟 InCl3
- 硝酸铟水合物 In(NO3).xH2O
- 氯化铷 RbCl3
- 氯化锑 SbCl3
- 氯化钐 SmCl3
- 氯化钐水合物 SmCl3.xH2O
- 氯化钪 ScCl3
- 氯化碲 TeCl3
- 氯化钽 TaCl5
- 氯化钨 WCl6
- 溴化铝 AlBr3
- 溴化钡 BaBr2
- 溴化钴 CoBr2
- 溴化镉 CdBr2
- 溴化镓 GaBr3
- 溴化镓水合物 GaBr3.xH2O
- 溴化镍 NiBr2
- 溴化钾 KBr
- 溴化铅 PbBr2
- 溴化锆 ZrBr2
- 四溴化铋 BiBr4
- 三碘化铋 BiI3
- 碘化钙 CaI2
- 碘化钆 GdI2
- 碘化钴 CoI2
- 碘化铯 CsI
- 碘化铕 EuI2
- 碘化锂 LiI
- 碘化锂水合物 LiI.xH2O
- 三碘化镓 GaI3
- 三碘化钆 GdI3
- 三碘化铟 InI3
- 碘化钾 KI
- 三碘化镧 LaI3
- 三碘化镥 LuI3
- 碘化镁 MgI2
- 碘化钠 NaI
- 粒子猫科研
- 科技观察
- 合作伙伴
- 联系
- 关于
镁铝尖晶石 MgAl2O4
铝酸镁(MgAl2O4)可作为III-V氮化物器件薄膜的衬底,也广泛应用于声波和微波器件以及快速IC外延衬底。此外,它与外延硅薄膜具有良好的晶格匹配。外延硅薄层中铝原子的自掺杂量小,热稳定性好,硅的膨胀系数比较接近,硬度小,加工性能较好等。,因此,它可以作为超高速大规模集成电路的优质绝缘衬里底层材料之一。目前,我们可以提供最大直径为2英寸(半高宽<50弧秒,粗糙度Ra<0.5纳米)的无孪晶、无晶域和超光滑优质基板。
二面体科技提供多种规格订制的高质量MgAl2O4材料
应用
铝酸镁(MgAl2O4)可作为III-V氮化物器件薄膜的衬底,也广泛应用于声波和微波器件以及快速IC外延衬底。
它可以作为超高速大规模集成电路的优质绝缘衬里底材之一。
特点
• 铝酸镁(MgAl2O4)晶体具有良好的透明性,可以在紫外到红外的广泛波长范围内传输光线。
• 这种材料具有出色的热稳定性和化学稳定性,可以在高温和化学腐蚀环境中保持其性能。
• 铝酸镁晶体衬底的热膨胀系数较低,因此在温度变化时其尺寸变化较小,这对于维持微电子和光电设备的稳定性非常重要。
• 它的晶格常数与许多重要的半导体材料(如镓氮)匹配得很好,使得它成为生长这些材料的理想衬底。
• 铝酸镁晶体衬底的电绝缘性能优异,适合用作电子设备的绝缘层。
-
生长方法
提拉法
晶体结构
立方
晶格常数
a=8.085Å
熔点(℃)
2130℃
密度
3.64g/cm3
莫氏硬度
8
颜色
白色透明
热膨胀系数
7.45×10-6 /℃
晶向
<100>,
尺寸
10x3,10x5,10x10,15x15,,20x15,20x20,
Ф1″,Ф2″,
厚度
0.5mm,1.0mm
抛光
单面或双面
晶向
<100>、<110>、<111>±0.5º
晶面定向精度:
±0.5°
边缘定向精度:
2°(特殊要求可达1°以内)
斜切晶片
可按特定需求,加工边缘取向的晶面按特定角度倾斜(倾斜角1°-45°)的晶片
Ra:
≤5Å(5µm×5µm)
包装
100级洁净袋,1000级超净室