Pt/Ti/SiO2/Si外延片

• 微电子设备和集成电路。
• 热管理和热电应用。
• 光电子和光通信

• 结构：这种材料的结构由四层组成。底层是单晶硅（Si），上面覆盖一层二氧化硅（SiO2），再上面是一层钛（Ti），最上层是一层铂（Pt）。每一层的材料都具有其独特的物理和化学性质，它们的组合赋予了这种材料一些特殊的特性。
• 电性能：Pt/Ti/SiO2/Si单晶片具有优良的电导率和电介质性质，使其在微电子设备和集成电路中有广泛应用。
• 热性能：这种材料具有良好的热稳定性和热传导性，使其在热管理和热电应用中非常重要。
• 耐蚀性：这种材料的表面层是铂，具有出色的抗氧化和耐蚀性，这使得它在各种环境条件下都能保持良好的性能。
• 光学性能：二氧化硅层具有优良的光学透明性，这使得该材料在光电子和光通信应用中具有潜在的应用价值。