锗化锑 GeSb(T)

锗锑化物 (GeSb) 溅射靶材对于制备具有优异热电性能和半导体特性的薄膜至关重要。其在热电器件、能源转换和半导体器件中的应用潜力使其成为能源和电子学领域的理想选择。GeSb 薄膜具备出色的热电性能和半导体特性，在能源和电子学应用中发挥着重要作用。随着对高效能热电器件和先进半导体器件的需求不断增长，GeSb 溅射靶材具有广泛的应用前景。

二面体科技提供多种规格订制的高质量GeSb(T)靶材。<>