氟化锂 LiF

氟化锂晶体的透射率在真空紫外110nm到红外6.0μm之间，是真空紫外区透射率最好的材料。该晶体广泛用于制备紫外-可见-红外领域的光学窗口、透镜、棱镜和折射元件。低折射率允许晶体直接使用，无需防反射涂层。氟化锂晶体也可用作X射线探测器晶体，以及OLED显示屏的涂层材料。我们可以提供通过拉法和下降法生长的高质量氟化锂单晶。

二面体科技提供多种规格订制的高质量LiF晶体材料

应用

LiF被广泛用于制备紫外-可见-红外领域的光学窗口、透镜、棱镜和折射元件。
可直接使用，无需防反射涂层。
氟化锂晶体也可用作X射线探测器晶体，以及OLED显示屏的涂层材料。

特点

氟化锂晶体的透射率在真空紫外110nm到红外6.0μm之间，是真空紫外区透射率最好的材料。
它的折射率很低。

晶体结构	立方
晶格常数	a=4.026 Å
熔点（℃）	870
密度（g/cm³）	2.635
硬度	4.0（mohs）
热膨胀系数	37.0 x 10^-6 /K
折射率	n=1.39
透过波段	0.11-7.00 μm
透过率	> 90% @0.2~4.5 μm;
色彩离差Hf-Hc	0.00395
温度系数dh/dt x 10-6	12.7 @0.6 m
晶体生长方法	Bridgeman或者CZ
解理面	<100>
尺寸	1010，2020，30*30，Ø50.8mm
厚度	0.5mm，1.0mm 或者根据客户要求定做
抛光	单面或双面
晶面定向精度:	±0.5°
边缘定向精度:	2°（特殊要求可达1°以内）
Ra:	≤10Å（5µm×5µm）
包装	100级洁净袋，1000级超净室

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氟化锂 LiF

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参数