氟化锂 LiF

氟化锂晶体的透射率在真空紫外110nm到红外6.0μm之间,是真空紫外区透射率最好的材料。该晶体广泛用于制备紫外-可见-红外领域的光学窗口、透镜、棱镜和折射元件。低折射率允许晶体直接使用,无需防反射涂层。氟化锂晶体也可用作X射线探测器晶体,以及OLED显示屏的涂层材料。我们可以提供通过拉法和下降法生长的高质量氟化锂单晶。

二面体科技提供多种规格订制的高质量LiF晶体材料

应用

LiF被广泛用于制备紫外-可见-红外领域的光学窗口、透镜、棱镜和折射元件。
可直接使用,无需防反射涂层。
氟化锂晶体也可用作X射线探测器晶体,以及OLED显示屏的涂层材料。

特点

氟化锂晶体的透射率在真空紫外110nm到红外6.0μm之间,是真空紫外区透射率最好的材料。
它的折射率很低。

  • 晶体结构

    立方

    晶格常数

    a=4.026 Å  

    熔点(℃

    870

    密度(g/cm3

    2.635

    硬度

    4.0mohs

    热膨胀系数

    37.0 x 10-6 /K

    折射率

    n=1.39

    透过波段

    0.11-7.00 μm

    透 过 率

    > 90% @0.2~4.5 μm; 

    色彩离差Hf-Hc

    0.00395

    温度系数dh/dt x 10-6

    12.7 @0.6 m

    晶体生长方法

    Bridgeman或者CZ

    解理面

    <100>

    尺寸

    10*1020*2030*30Ø50.8mm

    厚度

    0.5mm1.0mm 或者根据客户要求定做

    抛光

    单面或双面

    晶面定向精度:

    ±0.5°

    边缘定向精度:

    (特殊要求可达以内)

    Ra:

    ≤10Å5µm×5µm

    包装

    100级洁净袋,1000级超净室