铁Fe(T)

铁 (Fe) 溅射靶在薄膜行业中得到了广泛使用。铁的强度、硬度和磁性使其成为各种应用的理想材料,包括磁性材料、半导体、数据存储设备和催化剂。此外,由于铁的高熔点,铁也用于高温应用中。


我们提供靶材包含以下:

 

 金属靶材 金Au,银Ag,铂Pt,钯Pd,钌Ru,铱Ir,铝Al,铜Cu,钛Ti,镍Ni,铬Cr,钴Co,铁Fe,锰Mn,锌Zn,钒V,钨W,铪Hf,铌Nb,钼Mo,镧La,铈Ce,镨Pr,钕Nd,钐Sm,铕Eu,钆Gd,铽Tb,镝Dy,钬Ho,铒Er,铥Tm,镱Yb,镥Lu
 合金靶材 镍铁(NiFe)、镍钒(NiV)、镍铬(NiCr)、铝硅铜(AlSiCu)、钛锆(TiZr)、钨钛(WTi)
 碳化物靶材 碳C,硅Si,锗Ge,硼B,锑Sb,碲Te
 氧化物靶材 氧化铝(Al2O3)、二氧化硅(SiO2)、二氧化钛(TiO2)、三氧化二铬(Cr2O3)、氧化镍(NiO)、氧化铜(CuO)、氧化锌(ZnO)、二氧化锆(ZrO2)、氧化铟锡(ITO)、铟锌氧化物(IZO)、锑掺杂氧化锌(AZO)、氧化铈(CeO2)、氧化钨(WO3)、氧化铪(HfO2)、铟镓锌氧(IGZO)
 氮化物靶材 氮化硼(BN)、氮化铝(AlN)、氮化硅(Si3N4)、氮化钛(TiN)、氮化锆(ZrN)、氮化钽(TaN)
 硫化物靶材 硫化铁(FeS)、硫化锌(ZnS)、硫化铜(CuS)、三硫化二镓(Ga2S3)、三硫化二铟(In2S3)、硫化钼(MoS2)、三硫化二锑(SbS3)、硫化锡(SnS)、硫化镉(CdS)、铜锌锡硫化物(Cu2ZnSnS4)
 硼硒锑碲靶材 硼化镁(MgB2)、六硼化镧(LaB6)、二硼化钛(TiB2)、硒化锌(ZnSe)、锑化锌(Zn4Sb3)、硒化镉(CdSe)、碲化铟(In2Te3)、硒化锡(SnSe)、锑化锗(GeSb)、三硒化二锑(Sb2Se3)、三碲化二锑(Sb2Te3)、二碲化三铋(Bi2Te3)

二面体科技提供多种规格订制的高质量铁Fe(T)靶材。<>

应用

• 磁性材料
• 半导体
• 数据存储设备
• 催化剂

特点

• 磁性
• 强度大和硬度高
• 高熔点
• 适用于RF (射频) 和DC (直流) 磁控溅射