氮化物陶瓷靶

氮化硼 (BN) 溅射靶材被广泛用于制备具有优异热导和绝缘性能的薄膜。由于其高热稳定性和化学惰性，它们在热界面材料、润滑涂层和电子器件中得到了广泛应用。

氮化铝 (AlN) 溅射靶材因其优异的导热性和绝缘性能而备受青睐。由于其高热稳定性和电绝缘性，它们在高功率电子器件、散热器和封装材料中得到了广泛应用。

氮化硅 (Si3N4) 溅射靶材因其优异的绝缘性和耐热性而备受重视。由于其高温稳定性和化学惰性，它们在高温环境下的隔热材料、电子器件和耐磨涂层中得到了广泛应用。

氮化钛 (TiN) 溅射靶材因其卓越的硬度和耐腐蚀性而备受青睐。由于其高硬度和化学稳定性，它们在硬质涂层、金属陶瓷和电子器件中得到了广泛应用。

氮化锆 (ZrN) 溅射靶材因其卓越的硬度和耐腐蚀性而备受重视。由于其高硬度和化学稳定性，它们在硬质涂层、陶瓷涂层和金属加工中得到了广泛应用。

氮化钽 (TaN) 溅射靶材因其优异的耐热性和耐腐蚀性而备受青睐。由于其高温稳定性和化学惰性，它们在高温环境下的电子器件、热电材料和阻燃涂层中得到了广泛应用。