氧化物陶瓷靶

氧化铝 (Al2O3) 溅射靶以其硬度和抗性而著称。他们的高纯度使其适用于各种光学、电子和结构应用。

二氧化硅 (SiO2) 溅射靶以其高纯度和多功能性而备受关注，使其成为半导体设备、微电子和光学应用等多种应用的理想选择。

二氧化钛 (TiO2) 溅射靶以其化学稳定性和高折射指数而受关注。他们在光学涂层、太阳能电池和光催化等应用中找到了用途。

氧化铬(III) (Cr2O3) 溅射靶以其耐腐蚀性和热稳定性而受关注，使其成为数据存储、装饰涂层和太阳能电池等应用的理想选择。

氧化镍(II) (NiO) 溅射靶因其出色的电气和磁性能而在各种电子应用中被广泛使用。他们纯度高，非常适合生产高质量的膜。

由于其优越的电气性能，氧化铜(II) (CuO) 溅射靶在半导体和其他电子设备中被广泛使用。他们具有高的热导率，并且耐腐蚀。

氧化锌 (ZnO) 溅射靶以沉积高品质的氧化锌薄膜而备受关注，具有出色的电气和光学性能。它们在薄膜晶体管、太阳能电池和LED的制造中得到广泛应用。

氧化锆 (ZrO2) 溅射靶以其高熔点和出色的抗腐蚀和耐磨性而备受关注。它们在制造陶瓷电容器和燃料电池中得到广泛的应用。

氧化铟锡 (ITO) 溅射靶因其出色的电导率和对可见光的透明度而在行业中备受珍视，是制作透明导电膜的理想选择。它们在平板显示器、智能窗户、基于聚合物的电子设备和薄膜太阳能电池等应用中得到了广泛的使用。

氧化铟锌 (IZO) 溅射靶因其高电导率和光学透明度而受到珍视，使它们特别适合用于光电子行业的应用，如平板显示器和薄膜太阳能电池。

由于具有良好的电导率和光学透明度，氧化铝掺杂氧化锌 (AZO) 溅射靶在电子行业中备受珍视。相较于 ITO，它的成本更低且不那么稀有，使其成为透明导电膜等类似应用的有吸引力的替代品。

二氧化铈 (CeO2) 溅射靶以其生产高品质薄膜的能力而备受关注，这些薄膜用于制造陶瓷和催化剂。这些靶材的高纯度确保了膜的一致性和均匀性。

三氧化钨 (WO3) 溅射靶在生产光伏和电致变色设备中用于制造高纯度薄膜，因其卓越的电导率和光学特性而备受赞誉。这些靶材能够实现有效的沉积和均匀性，这在各种应用中都至关重要。

二氧化铪 (HfO2) 溅射靶提供了出色的耐腐蚀性和稳定性，使其成为半导体设备中生产薄膜的理想选择。由于这些靶材的高折射指数和在各种波长下的低吸收系数，使其在高级应用中至关重要。

氧化铟镓锌 (IGZO) 溅射靶以其卓越的迁移率和透明度而备受关注，这在薄膜晶体管 (TFTs) 的制造中至关重要。这些靶材也具有低关断态电流和高开/关电流比，提高了设备性能。