半导体靶

碳(C)溅射靶以其出色的电导和热导性能而备受关注。他们被用于各种应用，包括微电子和硬质涂层行业。

硅(Si)溅射靶以其高纯度和多功能性而备受关注，使其成为半导体、太阳能电池和薄膜应用的理想选择。

锗(Ge)溅射靶以其高纯度和优异的热性能而备受关注。他们被广泛应用于半导体和红外光学设备的制造中。

硼(B)溅射靶展示了独特的化学和物理特性，使其非常适合用于半导体设备和核技术的应用。

锑(Sb)溅射靶以其独特的性质如低热导性和脆性而受到赞赏。他们在电子行业和光伏材料中找到了应用。

碲(Te)溅射靶以其高导电性而备受关注，并用于制造半导体，热电设备和光伏电池。