合金靶

NiFe 靶材是由镍（Ni）和铁（Fe）混合而成的。其生产涉及高纯度材料，严格的制造控制和全面的测试程序。它具有高密度，导电性强，微观结构均匀，使其成为溅射系统中薄膜沉积的最佳选择。其主要应用包括磁性设备和抗腐蚀涂层。

镍钒（NiV）靶材是由镍（Ni）和钒（V）混合而成的。它以其高的溅射产率和低的杂质水平而闻名。NiV 靶材在生产储能设备和电化学电容器中有应用。

镍铬（NiCr）靶材是由镍（Ni）和铬（Cr）混合而成的。它以其高抗性和稳定性而闻名，这使其成为电路中电阻器的理想选择。随着世界趋向更紧凑和高效的设备，NiCr 溅射靶材的相关性持续上升，强调了其在推动技术发展中的重要性。

铝硅铜（AlSiCu）靶材结合了铝，硅和铜的特性。由于其出色的电气和热性能，这种靶材在半导体工业中被广泛应用。AlSiCu 靶材有助于产生用于许多高科技设备的高品质薄膜。

钛锆（TiZr）靶材是由钛（Ti）和锆（Zr）混合而成的。这种靶材以其优异的耐腐蚀性和机械性能而著称，使其在医疗器械和高科技行业中得到广泛应用。

钨钛（WTi）靶材是由钨（W）和钛（Ti）混合而成的。它具有良好的耐腐蚀性和高温性能，因此在空间应用和能源行业中有广泛的应用。